首页‘大摩平台万向平台，根据《中华人民共和国核两用品及相关技术出口管制条例》，现发布经修订的《核两用品及相关技术出口管制清单》，本清单自2015年7月1日起实施。

　　(一)本清单中所说明的各个物项既包括未使用过的物项，亦包括使用过的物项。

　　(二)如果对本清单中任何物项的说明不含限制条件或技术规格，这种说明是指该物项的全部品种。

　　(三)含有一个或多个受管制部件的任何不受管制物项(包括工厂)，如果所含的一个或多个受管制部件是该物项的主要成分，而且可能移走或可能移作他用，则不应排除对这类物项的管制。

　　“技术”转让根据《中华人民共和国核两用品及相关技术出口管制条例》并按照本清单第二部分中的规定来管制。与清单所列任何物项直接有关的“技术”将在我国法律法规允许的范围内经受与设备、材料同样严格程度的审查和管制。

　　清单第二部分中任一物项出口的许可亦包含对同一最终用户出口该物项的安装、运行、维护和修理中最低限度应有的技术的许可。

　　根据《中华人民共和国核两用品及相关技术出口管制条例》并按照本清单第二部分的规定对“软件”转让进行管制。

　　通常作为测量不准确度的度量，其定义为某一指示值同某一认可标准或真值的最大正负偏差。

　　在工作台上的工件已移出其初始位置后，精确测量的实际角位与理论角位之间的最大差值。

　　主要为获得现象和可观察到的事实的基本原理的新知识而从事的实验性或理论性工作，此类工作主要不是针对某一具体的实际目的或目标。

　　系指根据指令进行两种或多种“数控”动作，该指令规定了下一个所要求的位置和到达该位置所要求的进刀速度。而进刀速度随彼此间的关系变化，以便得到一种所要求的成形。

　　4、带：系指一种由通常预先浸渍过树脂并交织在一起或单向排列的纤维、细纱、粗纱、纱或细线等构成的材料。

　　本清单所述的“公共使用的”系指已经公开使用的“技术”或“软件”，而对其进一步扩大使用可以不加限制(受版权限制的上述“技术”或“软件”被包括在“公共使用”的范围以内)。

　　(通常以非线性度衡量)是实际特性值相对一直线的最大正负值偏差(高端和低端读数的平均值)，正值或负值，该直线的位置应使最大偏差均衡设置并减至最小。

　　系指规定可测变量的正确值以95%的置信水平处于输出值附近多大范围内的特性参数。这种特性参数包括未修正的系统偏差、未修正的游隙和随机偏差。

　　系指保持在一个特殊的存储器里的基本指令序列，通过把其参考指令引入指令寄存器开始执行该基本指令序列。

　　系指通过一种装置来执行某一过程的自动控制，该装置通常在操作中引入数字数据(参见ISO2382)。

　　(1)在测量前12小时和测量期间，机床和精度测量设备要保持在相同的环境温度下。在预测期间，机床的滑座要连续地作与在精度测量期间所作循环同样的循环；

　　(2)必须以增量方式进行测量，即从轴向行程的一个端点至另一个端点而不返回到起始位置，每次移动都朝向目标位置；

　　3、检验结果的说明(ISO2302(1988年)第2节或等效的国家标准)：

　　“技术数据”可以采用下述形式：蓝图、平面图、图表、模型、公式、工程设计和技术规格、手册与规程，它们被写入或记录在诸如磁盘、磁带、只读存储器等器件或其他载体上。

　　系指本清单所列物项的“研发”、“生产”或“使用”所要求的特定资料。这种资料可以采用“技术数据”或“技术援助”的形式。

　　(一)“核爆炸活动”包括：任何核爆炸装置或这种装置的部件或子系统的研究或研制、设计、制造、建造、试验或维护。

　　(二)“未受保障的核燃料循环活动”包括：任何反应堆、临界装置、转换厂、燃料元件制造厂、后处理厂、源材料或特种可裂变材料的同位素分离厂或独立的贮存设施的研究或研制、设计、制造、建造、运行或维护，而其现有的或未来的有关设施或装置在包容任何源材料或特种可裂变材料时，没有接受国际原子能机构(IAEA)保障的义务；或任何重水生产厂生产的任何核材料，或为重水生产所用的任何材料，没有接受国际原子能机构保障的义务；或没有履行这类义务时。

　　本清单使用国际单位制(SI)。在任何情况下，国际单位制规定的物理量应被认为是正式建议的管制值。但机床的某些参数通常是用不属于国际单位制的单位表示的。

　　技术说明：在1.1.1.1.项内，“冷区”这一术语系指设计申请书中暴露于最低辐射水平的窗口的视区。

　　1.1.2.专门设计抗辐射的、或经认定能抗总辐射剂量为5X104Gy(硅)以上辐射而又不会降低使用质量的电视摄像机及其所用的镜头。

　　技术说明：Gy(硅)这一术语系指某一未屏蔽的硅样品暴露于电离辐射时所吸收的以Jkg为单位的能量。

　　1.按照国家安全标准专门设计，能用于处理高能炸药(例如，满足高能炸药电气法规标称值)；或

　　2.专门设计定为抗辐射的，能经受大于5×104Gy(硅)的辐射而不会降低使用性能。

　　技术说明：Gy(硅)这一术语系指某一未屏蔽的硅样品暴露于电离辐射时所吸收的以Jkg为单位的能量。

　　2.为1.1.3.1.项所说的任何“机器人”或“末端操纵装置”专门设计的控制器。

　　说明：1.1.3.项并不管制专门为诸如汽车喷漆台之类的非核工业应用所设计的“机器人”。

　　在1.1.3.项中，“机器人”系指一种操纵机构，它可以是连续轨径作业，或按点位作业，还可能使用“传感器”并具有下述特性：

　　(2)通过在三维空间中的可变移动能使材料、零件、工具或专用装置定位或定向；

　　(4)通过教学、复演法或通过采用可编程序逻辑控制的电子计算机使该机有“用户可存取编程能力”，即无需机械干预。

　　在上述定义中“传感器”系指物理现象的探测器，其输出(在转换成一种可由控制器解释的信号之后)能够产生“程序”，或修改程序指令或数字“程序”数据。它包括具有机器显示、红外线成像、声像、触觉测量、惯性位置测量、光学或声学测距或力测量或转矩测量等能力的“传感器”。

　　在上述定义中，“用户可存取编程的能力”系指允许用户采用与下述方法不同的方法插入、修改或替换“程序”的设施：

　　(2)固定顺序操纵机构，它们是按照机械式固定的程序运动的自动运转装置。通过固定的止动件(例如销或凸轮)机械地限制该“程序”。采用机械的、电子的或电气的手段不可能改变或变更运转顺序和选择轨径或角度；

　　(3)机械式控制可变顺序操纵机构，它们是按照机械式固定的程序运动的自动运转装置。通过固定的、然而却是可调的止动件(例如销或凸轮)机械地限制该“程序”。在固定的“程序”模式里，运转顺序和轨径或角度的选择是可以改变的。只有通过机械操作才能改变或修改(例如，更改所用销或调换凸轮)一个或多个运动轴上“程序”模式；

　　(4)非伺服控制可变顺序操纵机构，它们是按照机械式固定程序运动的自动运转装置。该“程序”是可以改变的，但是只有通过机械式固定的二进制电气装置输出的二进制信号或可调的止动件才能使运动按顺序继续进行；

　　(5)被称为笛卡尔坐标操纵系统的塔式起重机，是垂直排列贮存箱仓库的组成部分，用于存取贮存箱的内装物，供贮存或提取使用。

　　在1.1.3.项中，“末端操纵单元”包括夹持器、“有源加工单元”以及附在“机器人”操纵臂末端主夹板上的任何其他工具。

　　上述定义中，“有源加工单元”是一种对工件施加动力源、过程能量或对其进行检测的装置。

　　1.1.4.能用来为放射化学分离作业或热室提供远距离操作的遥控机械手，具有以下任一特性：

　　技术说明：远距离操作的机械手把操作员的动作转递给远距离操作臂和末端夹具。机械手可为“主、仆”型机械手，或者为通过控制杆或键盘操作的机械手。

　　2.转筒成形用的芯轴，用其制成内径在75mm至400mm之间的圆柱形转筒。

　　说明：1.2.1.1.项包括那些只有一个用来使金属变形的滚轮和两个用以支撑芯轴但不直接参加变形过程的辅助滚轮的机床。

　　1.2.2.用于切削或切割金属、陶瓷或复合材料的机床；根据制造厂的技术说明书，这类机床可以配备沿2个或多个轴同时进行“成形控制”的电子装置，如下：

　　1.车床，对于加工件直径大于35mm的车床，按照ISO2302(1988年)或等效的国家标准，“定位精度”在采取了所有补偿手段后沿任一直线μm(总定位精度)。

　　说明：1.2.2.1.项不包括仅加工贯穿进给的棒料，棒料最大直径等于或小于42mm，并且无法安装卡盘能力的棒料车床。车床可对直径小于42mm的加工零件进行钻、铣加工。

　　1.按照ISO2302(1988年)或等效的国家标准，“定位精度”在采取了所有补偿手段后沿任一直线μm(总定位精度)；或

　　2.按照ISO2302(1988年)或等效的国家标准，沿X轴的总“定位精度”大于30μm。

　　1.按照ISO2302(1988年)或等效的国家标准，“定位精度”在采取了所有补偿手段后沿任一直线μm(总定位精度)；或

　　2.坐标磨不具有总定位精度小于(优于)4μm的z轴或w轴，精度按照ISO2302(1988)或等效的国家标准定。

　　4.具有2个或更多个成形旋转轴并能同时调整进行“成形控制”的无线型放电加工机(EDM)。

　　说明：1.按照ISO230/2(1988年)或等效的国家标准进行测量后，根据以下程序得出声称的“定位精度”水平，如果提供给国家有关主管部门并得到认可，可以用于每种型号机床的测试以代替对单个机床的测试。按照如下程序得出声称的“定位精度”：

　　2.按照ISO230/2(1988年)或等效的国家标准，测量直线.测量每台机器每一轴线的精度值(A)。ISO230/2(1988年)标准或等效的国家标准中介绍了计算精度值的方法；

　　4.测量每一轴线的平均精度值。此平均值即可成为该型号机器每一轴线声称的“定位精度”(?x，?y……)；

　　5.既然1.2.2.项中提到每个直线坐标，因此，将会得出与线性轴数同样多的声称的“定位精度”值；

　　6.如果不受1.2.2.1.、1.2.2.2.或1.2.2.3.项管制的某一机床的任何轴线声称“定位精度”对磨床而言为6μm或更小和对铣床和车床而言为8μm或更小(两者均按照ISO230/2(1988年)或等效的国家标准测定)，则应要求制造者每18个月重新确定一次精度水平。

　　技术说明：1.轴应根据国际标准(ISO841《数控机床--轴和动作的名称》)或等效的国家标准命名。

　　2.二次平行成形未计入成形。(如：在水平镗床上的w轴或中心线与一次转轴平行的二次转轴)。

　　3.旋转轴不一定需要旋转360度。旋转轴可由丝杆或齿轮-齿条之类线性机构驱动。

　　4.按1.2.2项所需，可同时调正的“成形控制”的轴数是指在加工中沿这些轴或围绕这些轴可实现工件与刀具间同时的，有关联的运动的轴数。这不包括任何其他的轴，沿这些轴或围绕这些轴在车床上实现其他有关运动，例如：

　　3.用来从不同端点将同一工件装入卡盘的沿同一直线个以上动能(如车床具有铣的功能)的工具要分别以1.2.2.1项，1.2.2.2项，和1.2.2.3项加以评估。

　　6.1.2.2.2.3项与1.2.2.3.3项包含基于平行线性动力学设计的机床(例如：并联机床)，它有5个或以上的非转动轴。

　　1.有2个轴，并且根据ISO10360-2(2009)或等效的国家标准，在坐标测量仪运行范围内(即在轴的长度范围内)的任何点，沿任一轴(一维)的长度测量的最大允许误差(以E0xMPE、E0yMPE或E0zMPE的任何组合表示)等于或小于(1.25＋L/1000)μm(L是所测长度，单位：mm)；或者

　　2.带3个或更多个轴，而且根据ISO10360-2(2009)或等效的国家标准，在坐标测量仪运行范围内(即在轴的长度范围内)的任何点，长度测量的三维(体积)最大允许误差(E0，MPE)等于或小于(1.7＋L/800)μm(L是所测长度，单位：mm)。

　　技术说明：制造商根据ISO10360-2(2009)或等效的国家标准具体规定的坐标测量仪最精确装置(例如探头、触针长度、运动参数、环境中最佳部分)的E0，MPE在采取一切可利用的补偿后应与1.7＋L/800μm的阀值可比。

　　1.非接触型测量系统，测量范围不超过0.2mm时，其“分辨率”等于或小于0.2μm；

　　1.1.对于运行范围不超5mm的线到全运行范围内测得的“线.对于运行测量范围超过5mm的线mm范围测得的“线.在标准环境试验室，其温度变化为±1K时，每天漂移量等于或小于0.1%；

　　2.“测量不确定度”等于或小于(0.2＋L/2000)μm(L是所测长度，单位：mm)；

　　说明：1.2.3.2.3.项不包括测量用干涉仪系统，该系统无闭环或开环反馈，装有“激光器”，用以测量机床、尺寸检验仪或相似设备的滑座运动误差。

　　技术说明：在1.2.3.2.项中，“线性位移”系指测量探头与被测物体之间距离的变化。

　　说明：1.2.3.3.项不管制光学仪器如自动准直仪，它使用准直光(例如：激光)检测镜子角位移。

　　1.沿任一直线坐标轴的“测量不确定度”，每5mm等于或小于3.5μm；以及

　　说明：1.如果可用作测量的机床达到或超过该测量仪功能所规定的标准，则应包括在1.2.3.项内。

　　2.如果1.2.3.项中所述尺寸检验仪在其工作范围内的任何方面超过规定的阈值，则这种检验机应加以管制。

　　2.1.2.4.1.项中管制的感应炉电源为专门设计，其额定输出功率为5kW或更大。

　　2.为1.2.5.1.项中管制的“等静压压力机”专门设计的钢模、模型、控制器。

　　技术说明：1.在1.2.5.项中，“等静压压力机”系指能够通过各种介质(气体、液体、固体颗粒等)对密闭腔加压的设备，它能在腔内在所有方向上对工件或材料施加相同的压力。

　　2.在1.2.5.项中，腔室的内部尺寸系指能达到工作温度和工作压力，但不包括夹具在内的腔室内部尺寸。该尺寸将是压力室内径或绝缘炉室内径的较小者，视哪一个腔室位于另一个腔室里面。

　　2.数字控制器，装有为振动试验(实时频宽大于5kHz)设计的“软件”，该软件也是为上述1.2.6.1.项管制的系统设计的；

　　3.装有或未装有辅助放大器，能施力50kN或更大(“空台”测量)，可用于上述1.2.6.1.项管制的系统的振动启动器(振动装置)；

　　4.设计用来将多台振动装置联接成一完整振动系统以便能提供50kN或更大的有效合力(“空台”测量)，可用于上述1.2.6.1.项受管制系统的试验部件支承结构和电子学装置；

　　3.为1.2.7.1.或1.2.7.2.项中管制的任何用炉专门配备的计算机控制系统和监测系统。

　　说明：为1.2.3.4.项中管制的系统专门设计或改进的软件包括用于同时测量壁厚和轮廓的“软件”。

　　1.4.2.专为“研发”、“生产”或“使用”上述1.2.2项中管制的设备而设计或改进的“软件”。

　　说明：1.4.2项不管制虽产生“数控”命令代码但不能直接应用于设备进行各种零件加工的部件加工“软件”

　　1.4.3.供电子装置或系统的任一组合使用的软件，以便使该装置起机床“数控”单元的作用，即能控制5个或更多个能同时协调进行用于“成形控制”的内插轴的“软件”。

　　说明：1.无论是单独出口的还是装在“数控”单元或任何子装置或系统中的“软件”都受到管制。

　　2.1.4.3项对控制单元或机床制造厂为操作未在1.2.2项管制之列的机床而专门设计或改进的“软件”不管制。

　　1.5.1.遵循“技术控制”，系为“研发”、“生产”或“使用”1.1.项至1.4.项所管制的设备、材料或“软件”的技术。

　　2.用总不纯度2%或更低(按重量计)的下述任何一种材料或下述材料组合制造的或作涂层：

　　2.1.2.为从重水中回收氚或为生产重水而专门设计或制备的镀铂催化剂，用于加速氢和水之间的氢同位素交换反应。

　　2.用2.3.7.1.项中管制的任何一种“纤维或纤丝材料”或2.3.7.3.项中所述碳纤维浸渍树脂材料制造。

　　1.能够冷却到23K(－250℃)或更低温度的氢或氦的制冷单元，其排热能力大于150W；

　　注意：等离子体分离过程中的某些锂同位素分离设备和部件可直接用于铀浓缩分离的，按照《核出口管制清单》加以管制。

　　4.为锂同位素分离专门设计的化学交换系统(采用冠醚、穴醚和套索醚)以及为其专门设计的部件。

　　技术说明：2.3.1.项中所述的“能达到”包括未经热处理的或经热处理的铝合金。

　　2.3.2.铍金属、含铍50%以上(按重量计)的合金、铍的化合物和其制品以及任何上述制品的废料或碎屑。

　　2.3.4.硼-10(10B)同位素富集到大于其天然同位素丰度的各种硼材料，如下：元素硼、化合物、含硼混合物和其制品以及任何前述制品的废料或碎屑。

　　技术说明：硼-10的天然同位素丰度重量百分数约为18.5(原子百分数为20)。

　　说明：2.3.7.1.项不包括具有0.25%或更多(按重量计)酯基纤维表面改性剂的芳族酰氨纤维或纤丝材料。

　　3.用2.3.7.1.或2.3.7.2.项所述的碳或玻璃纤维或纤丝材料制成并浸渍了热固性树脂的连续的细线、粗纱、纱或宽度不超过15mm的带(预浸料坯)。

　　技术说明：1.在2.3.7.项中，“比模量”系指在温度为296±2K(23±2℃)和相对湿度为50±5%的条件下测量的杨氏模量(单位：N/㎡)除以比重(单位：N/m3)。

　　2.在2.3.7.项中，“比抗拉强度”系指在温度为296±2K(23±2℃)和相对湿度为50±5%的条件下测量的极限抗拉强度(单位：N/㎡)除以比重(单位：N/m3)。

　　2.3.8.铪金属、铪含量超过60%(按重量计)的合金、含铪量超过60%(按重量计)的铪化合物和铪制品，以及任何上述材料的废料或碎屑。

　　2.3.9.锂-6同位素(6Li)富集到大于其天然同位素丰度的锂，以及含富集锂的产品或装置，如下：单质锂、合金、化合物或含锂混合物及其制品、以及上述任何材料的废料或碎屑。

　　技术说明：锂-6天然同位素丰度的重量百分数约为6.5%(原子百分数为7.5%)。

　　2.3.11.马氏体时效钢，其在293K(20℃)下极限抗拉强度能达到1950MPa或更大。

　　技术说明：2.3.11.项所述的“能达到”包括热处理前的或热处理后的马氏体时效钢。

　　2.3.12.镭-226(226Ra)、镭-226合金、镭-226化合物、含镭-226的混合物、其制品以及含有上述任何物质的产品或装置；

　　1.在293K(20℃)下的极限抗拉强度“能达到”900MPa或更大；以及

　　技术说明：2.3.13.项中所述的“能达到”包括热处理前的或热处理后的钛合金。

　　2.3.14.具有以下两种特性的钨、碳化钨或含钨90%以上(按重量计)的合金：

　　1.内径在100mm和300mm之间，呈空心圆柱形对称体(包括圆柱体扇形段)；以及

　　2.3.15.呈下述形式且铪含量与锆含量之比小于1：500(按重量计)的锆：金属锆、含锆50%以上(按重量计)的合金、化合物、及其制品，以及上述任何材料的废料和碎屑。

　　技术说明：2.3.16.2.项指的是通过压制和烧结2.3.16.1.项所述材料使之成为整个结构内具有许多相连的细孔的金属材料而制成的多孔金属。

　　2.3.17.氚-氢原子比超过千分之一的氚、氚化物和氚的混合物以及含有上述任何一种物质的产品和装置。

　　说明：2.3.17.项不包括含氚(任何形态)量小于1.48×103GBq的产品或装置。

　　2.3.18.氦-3(3He)、含有氦-3的混合物和含有上述任一种物质的产品或装置；

　　2.3.20具有以下两种特性的铼和铼含量达到或超过90%(按重量计)的合金，以及铼和钨任意组合含量达到或超过90%(按重量计)的铼钨合金：

　　1.内径在100mm和300mm之间，呈空心圆柱形对称体(包括圆柱体扇形段)；以及

　　2.5.1.遵循“技术管制”，系为“研发”、“生产”或“使用”第2.1.项到2.4.项中所管制的设备、材料或“软件”的“技术”。

　　3.1.1.具有下述各种特性，可作为变频或固定频率电机驱动装置使用的频率变换器或发电机：

　　注意1：为气体离心过程特别设计或配备的变频器和发电机按照《核出口管制清单》加以管制。

　　注意2：为提升或发挥频率变化器或发电机的性能以达到下述特性而专门设计的“软件”在3.4.2项和3.4.3项实施管制。

　　说明：1.如果用于专用工业机械和(或)消费品(机床、车辆等)的频率变换器达到上述特性，同时属于本清单第一部分总说明(三)所规定的移走使用的情况的，则按照3.1.1项加以管制。

　　技术说明：1.3.1.1.项中的频率变换器亦是通常所称的变频器或逆变器。

　　2.在市场上销售的设备，诸如发电机、电子测试设备、交流电源、变速电机驱动装置、变速驱动装置(VSD)、变频驱动装置(VFD)、可调频率驱动装置(AFD)或可调速驱动装置(ASD)等可能会达到3.1.1项所列指标。

　　3.下述掺钕的激光器(而不是玻璃激光器)，具有1000nm至1100nm的输出波长，并具有下述任何一种特性：

　　1.采用脉冲激发和Q-开关，其脉冲宽度等于或大于1ns，并具有下述任何一种特性：

　　2.倍频后，输出波长在500nm至550nm之间，倍频(新波长)平均功率超过40W；

　　说明：3.1.2.7.项并不意味着要对诸如切割和焊接中应用的更高功率(通常为1至5kW)工业用二氧化碳激光器实施管制，因为这类激光器采用的是连续波，或是脉冲宽度超过200ns的脉冲。

　　说明：3.1.2.10项并不意味着要对诸如切割和焊接中应用的更高功率(通常为1至5kW)工业用一氧化碳激光器实施管制，因为这类激光器采用的是连续波，或是脉冲宽度超过200ns的脉冲。

　　3.全部用铝、铝合金、镍或镍含量60%或更多(按重量计)的镍合金制造或内衬这种材料。

　　技术说明：对于入口和出口直径不同的阀门，3.1.3.1.项的标称尺寸是指最小直径。

　　说明：3.1.4.项不包括专门为医用核磁共振成像系统(NMR)设计并作为该系统部件出口的磁体。

　　注意：所谓“部件”并不一定就是同批装运的实际部件。只要有关的出口文件明确规定这种“部件”关系，则允许从不同来源单独装运。

　　1.能在8h期间连续产生100V或更高的电压，输出电流为500A或更大；以及

　　1.能在8h期间连续产生20kV或更高的电压，输出电流为1A或更大；以及

　　1.配备用铝、铝合金、氧化铝(矾土或蓝宝石)、镍、镍含量60%或更多(按重量计)的镍合金或完全氟化的烃聚合物制造或保护的压力敏感元件；以及

　　2.如果有，封装压力敏感元件所必需的，直接接触过程介质，由铝、铝合金、氧化铝(矾土或蓝宝石)、镍、镍含量60%或更多(按重量计)的镍合金、完全氟化的烃聚合物制造或保护的封装。

　　技术说明：1.在3.1.7.项中，压力传感器是把压力测量结果转变为可用信号的装置。

　　2.堵住泵抽气端，可在此抽气端测定这种极限线.具有下述所有特性的波纹管密封涡旋压缩机和波纹管密封涡旋线/h或更大的入口体积流率；

　　技术说明：1.在涡旋压缩机或涡旋真空泵中，一对或多对相互啮合的涡旋盘或涡盘中形成月牙形气室，相互啮合的涡旋盘一个运动而另外一个保持不动。运动的涡盘围绕不动的涡盘旋转摆动，而自身不旋转。随着动涡轮盘绕静涡轮盘的运动，转向机器出口端月牙形气室逐步缩小(即气体被压缩)。

　　2.在波纹管密封涡旋压缩机或真空泵中，流程气体通过一个金属波纹管与泵的润滑部件和外部大气完全隔开。波纹管的一端连接到动涡盘，另一端连接到真空泵的壳体。

　　3.2.2.转筒制造和装配用设备、转筒矫直设备以及波纹管成型箱芯轴和模具，如下：

　　技术说明：在3.2.2.2.项中，这种设备通常是由连接计算机的精密测量探头组成，该计算机随后控制诸如用于对准转筒管件的气动活塞的动作。

　　1.用于长度为600mm或更长的柔性转筒的平衡并具有下述所有特性的离心平衡机：

　　3.通过平衡补偿能使剩余的不平衡仅为每个平面0.010kg.mm/kg或更小；以及

　　1.具有以下所有特性的绕线.具有定位、缠绕和卷绕动作可在2个或更多个轴线上进行调节和编制程序；

　　3.能够卷绕内径在75mm至650mm之间、长度为300mm或更长的圆柱管；

　　3.2.5.为一个或多个离子源设计或配备的电磁同位素分离器，能提供总的离子束电流为50mA或更大。

　　注意：能够分离一个质量单位差的铅同位素的分离器，必然能够富集有三个质量单位差的铀同位素。

　　2.3.2.5.项包括离子源和收集器都在磁场内的分离器，以及两者都布置在磁场外的分离器。

　　技术说明：单一50mA离子源可以从天然丰度的给料中每年分离出不到3g的高浓铀(HEU)。

　　3.2.6.质谱仪，可用于测量230原子质量单位或更大的离子，且分辨率高于2/230，以及这些质谱仪的离子源，如下：

　　注意：专门为分析六氟化铀在线样品而设计或制造的质谱仪按照《核出口管制清单》加以管制。

　　2.能冷却至193K(－80℃)或更低的温度以捕获未被电子束电离的分析物分子的一个或多个冷阱；

　　技术说明：1.3.2.6.4项描述的是常用于六氟化铀气体样品同位素分析的质谱仪。

　　2.3.2.6.4项中的电子轰击质谱仪也被称作电子冲击质谱仪或电子电离质谱仪。

　　3.在3.2.6.4.2项中，“冷阱”是一种通过将气体分子凝结或冻结在冷的表面上来捕集气体分子的装置。为实现此项管制，闭环气态氨低温真空泵不是冷阱。

　　3.4.1.为“使用”3.2.3.或3.2.4.项中管制的设备专门设计的“软件”。

　　3.4.2.为加强或发挥3.1.1项未管制设备的性能特性以便其达到或超过3.1.1.项规定特性而专门设计的“软件”或加密密钥/代码。

　　3.4.3.为加强或发挥3.1.1.项受控设备的性能特性而专门设计的“软件”。

　　3.5.1.遵循“技术管制”，系为“研发”、“生产”或“使用”3.1.项到3.4.项中管制的设备、材料或“软件”的“技术”。万向测速网址

　　2.设计用于线.泵，可以用来循环液态氨(KNH2/NH3)中被稀释的或被浓缩的钾酰胺催化剂溶液并具有下述所有特性：

　　1.用于浓缩的钾酰胺溶液(1%或更高)，工作压力为1.5至60MPa(15-600个大气压)；或

　　2.用于稀释的钾酰胺溶液(小于1%)，工作压力为20至60MPa(200-600个大气压)。

　　2.用细晶粒碳钢制成，其奥氏体晶粒度为5级或5级以上，按ASTM标准(或等效的国家标准)；和

　　技术说明：塔的内接触器是各种扇形板，有效组装直径为1.8m或更大，其设计有利于逆流接触并用碳含量为0.03%或更低的耐硫化氢、水混合物腐蚀的不锈钢制成。这些接触器可为筛板、浮阀塔板、泡罩塔盘或栅板塔盘。

　　1.用含硫量低并采用奥氏体晶粒度为5级或5级以上，按ASTM标准(或等效的国家标准)300系列细晶粒不锈钢制成；或

　　技术说明：“有效长度”是指填料塔中填充材料的有效高度或版式塔中内接触板的有效高度。

　　4.5.1.遵循“技术控制”，系为“研发”、“生产”或“使用”4.1.项到4.4.项中管制的设备、材料或“软件”的“技术”。

　　说明：5.2.1.项不包括为非电子束或X射线辐射用(例如电子显微镜)和医用装置部件的加速器。

　　技术说明：1.品质因素K定义为K＝1.7×103V2.65Q。V是峰值电子能量(单位：百万电子伏)，如果加速器电子束脉冲宽度小于或等于1μs时间，则Q为总的加速电荷(单位：库仑)；如果加速器电子束脉冲宽度大于1μs时，则Q为1μs内的最大加速电荷。Q等于i对t的积分，时间区间在1μs或电子束脉冲宽度，两者中取较小者(Q＝∫idt)，公式中i是电子束电流(单位：A)，t是时间(单位：s)。

　　3.电子束脉冲时间宽度：在用微波加速腔的加速器里，电子束脉冲时间宽度是1μs或是微波调制器一个脉冲产生的聚束团的持续时间，两者中取较小者。

　　4.电子束峰值电流：在用微波加速腔的加速器里，电子束峰值电流为聚束团持续时间内的平均电流。

　　5.2.2.高速炮系统(推进剂、气体、线圈炮、电磁炮、电热炮或其他先进的系统)，能够把弹丸加速至每秒1.5km或更快。

　　注意：为加强或发挥相机或成像装置的性能以达到下述特性而专门设计的“软件”在5.4.1项和5.4.2项实施管制。

　　4.为与具有模块式结构并能达到5.2.3.1.1项或5.2.3.1.2.项性能指标的扫描相机结合使用而专门设计的插件；

　　5.为5.2.3.1.1.项所述相机专门设计的同步电子部件和旋转组件(由涡轮、反射镜和轴承组成)

　　3.为5.2.3.2.1项或5.2.3.2.2项所述相机专门设计的选通(快门)时间为50ns或更少的分幅管和固态成像器件；

　　4.为与具有模块式结构并能达到5.2.3.2.1项或5.2.3.2.2项性能指标的分幅相机结合使用而专门设计的插件；

　　5.为5.2.3.2.1项或5.2.3.2.2项所述相机专门设计的同步电子部件和旋转组件(由涡轮、反射镜和轴承组成)。

　　2.为5.2.3.3.1项所述相机专门设计的选通(快门)时间为50ns或更小的固态成像装置和图像增强管；

　　3.选通(快门)时间为50ns或更小的电光快门装置(克尔盒或泡克耳斯盒)；

　　4.为与具有模块式结构并能达到5.2.3.3.1项性能指标的相机结合使用而专门设计的插件。

　　技术说明：高速单帧相机可单独用于产生一项动态事件的单一图像，或可将若干这类相机与顺序触发系统相结合，以产生一项事件的多幅图像。

　　1.用于测量速度超过1km/s、持续时间间隔少于10μs的速度干涉仪；测量压力超过10GPa的冲击压力计，包括用锰铜、镱和聚偏二氟乙烯制成的压力计；

　　说明：5.2.5.1.项包括诸如适用于任意反射体的速度干涉仪系统(VISARs)和多普勒激光干涉仪(DLIs)和光子多普勒测速仪(PDV)，即外差测速仪(Het-V)等速度干涉仪。

　　技术说明：1.在5.2.6.2.项中，“脉冲上升时间”定义为电压幅度从10%增至90%时的时间间隔。

　　2.脉冲头是为接受电压阶跃函数并使之形成可包括矩形脉冲、三角形脉冲、阶跃脉冲、冲击脉冲、指数脉冲或单周期脉冲等各类脉冲形式而设计的脉冲形成网络。脉冲头可以是脉冲发生器的一个整体组成部分，可以是该装置的一个插件模块，或可以是一个外部连接装置。

　　5.2.7.为测试高能炸药或爆炸装置而设计的具有下列两种特性的高爆炸药安全壳、爆室、容器和其他类似封隔装置：

　　5.4.1.为加强或发挥5.2.3项未控制设备的性能特性以便其达到或超过5.2.3项规定特性而专门设计的“软件”或加密密钥/代码。

　　5.4.2.为加强或发挥5.2.3.项受控设备的性能特性而专门设计的“软件”或加密密钥/代码。

　　5.5.1.遵循“技术控制”，系为“研发”、“生产”或“使用”5.1.项到5.4.项中管制的设备、材料或“软件”的“技术”。

　　2.使用单个或多个雷管的装置，该装置设计成可由单一的点火信号几乎同时(传遍炸药面到起爆的时间小于2.5μs)起爆炸药面(其面积超过5000m㎡)。

　　技术说明：6.1.1.项中所述雷管均利用一个小导电体(例如桥、桥丝或箔)，当上升时间短的大电流电脉冲通过上述导电体时，使它爆炸而汽化。在非冲击片型雷管里，爆炸的导电体引起相接触的高能炸药如太安(PETN，季戊四醇四硝酸酯)化学爆轰。在冲击片型雷管里，导电体的爆炸蒸汽驱动“飞片”或“冲击片”飞过一个间隙，撞击炸药而引起化学爆轰。在某些设计中，冲击片是由磁力驱动。术语“爆炸箔”雷管，可以指“爆炸桥”雷管，或指“冲击片”型雷管。“起爆器”有时也被用来代替“雷管”。

　　1.引爆多个上述6.1.1.项中管制的雷管用雷管点火装置(起爆系统、点火装置)，包括带电的、爆炸驱动的和光学驱动的点火装置；

　　说明：光学驱动点火装置包括采用激光起爆和激光充电的装置。爆炸驱动点火装置包括爆炸铁电和爆炸铁磁点火装置类型。6.1.2.2.项包括氙闪光灯激励器。

　　2.利用静电加速来诱发氘-氘核反应，并能输出3×109个中子或更多中子。

　　6.3.1.含有超过2%(按重量计)的下述任何一种物质的高能炸药或混合物：

　　6.5.1.遵循“技术控制”，系为“研发”、“生产”或“使用”6.1.项到6.4.项中管制的设备、材料或“软件”的“技术”。